全反射X熒光光譜儀原理是基于X熒光能譜法，但與X射線能譜形成對(duì)比的是“傳統(tǒng)能譜采用原級(jí)X光束以45°角轟擊樣品，而TXRF采用毫弧度的臨界角。由于采用此種近于切線方向的入射角，原級(jí)X光束幾乎可以全部被反射，照射在樣品表面后，可以zui大程度上避免樣品載體吸收光束和減小散射的發(fā)生，同時(shí)減小了載體的背景和噪聲”。全反射X熒光光譜儀將全反射和傳統(tǒng)的能量色散集成在同一臺(tái)儀器上，創(chuàng)新光學(xué)編碼器的步進(jìn)電機(jī)，角度測(cè)量，軟件控制Mo/W靶可自由切換，采用高分辨、低背景的帕爾貼控溫硅漂移檢測(cè)器。
    全反射X熒光光譜儀應(yīng)用范圍：可檢測(cè)從Na到Pu所有元素含量，可進(jìn)行痕量或超痕量元素分析（ppt或pg），廣泛的應(yīng)用在環(huán)境分析（水、灰塵、沉積物、大氣懸浮物），制藥分析（生物體液和組織樣品中的有害元素），法醫(yī)學(xué)（微小證據(jù)分析），化學(xué)純度分析（酸、堿、鹽、溶劑、水、超純?cè)噭推贩治觯ㄔ汀⑤p質(zhì)油、燃料油），染料分析（墨水、油漆、粉末），半導(dǎo)體材料分析（揮發(fā)相分解），核材料工業(yè)（放射性元素分析）。
    全反射X熒光光譜儀主要特點(diǎn)：
     1、單內(nèi)標(biāo)校正，極大的簡(jiǎn)化了定量分析，無(wú)基體影響；
     2、對(duì)于任何基體的樣品可單獨(dú)進(jìn)行校準(zhǔn)和定量分析；
     3、多元素實(shí)時(shí)分析，可進(jìn)行痕量和超痕量分析；
     4、不受樣品的類(lèi)型和不同應(yīng)用需求影響；
     5、*的液體或固體樣品的微量分析，分析所需樣品量小；
     6、的檢出限水平，元素分析范圍從鈉覆蓋到钚；
     7、的動(dòng)態(tài)線性范圍；
     8、無(wú)需任何化學(xué)前處理，無(wú)記憶效應(yīng)；
     9、非破壞性分析，運(yùn)行成本低廉。